您好 欢迎来到涂附磨具网  | 免费注册
远发信息:磨料磨具行业的一站式媒体平台磨料磨具行业的一站式媒体平台
手机资讯手机资讯
官方微信官方微信

河北钢铁邯钢卷取机助卷辊实现在线抛光

关键词 抛光 , 卷取机助卷辊|2013-08-29 10:24:42|应用技术|来源 中国钢铁新闻网
摘要 日前,河北钢铁(000709)集团邯钢公司新区热轧厂开发的一种拥有自主知识产权的卷取机助卷辊在线抛光技术,解决了人工打磨费力、费时且效果差的问题,为快节奏生产提供了有力支撑。板带在...
       日前,河北钢铁(000709)集团邯钢公司新区热轧厂开发的一种拥有自主知识产权的卷取机助卷辊在线抛光技术,解决了人工打磨费力、费时且效果差的问题,为快节奏生产提供了有力支撑。

       板带在进入卷取工序时,由于速度高对助卷辊往往造成损害,须要拆卸下来进行人工抛光,或停产在线人工抛光,否则将在板带表面造成压痕,影响产品销售。而随着生产节奏的加快,再加上人工抛光效果差,这种影响越来越大,压痕缺陷越来越多,甚至被迫停产处理。

       为寻求一种高效、安全的助卷辊抛光技术,邯钢对各种生产辊的在线抛光技术进行了仔细研究,发现精轧机的工作辊、卷取机的夹送辊等都有成熟的在线抛光技术和设备,而同样能对板带产生压痕事故的助卷辊在线抛光技术还处于空白。

       为此,他们对卷取机的设备机构动作特点及液压控制技术进行了研究,并了解了磨削设备及材料,在此基础上发明了一种拥有自主知识产权的助卷辊在线抛光器,其优势表现在:可在卷取机工作间隙,安装在卷取机芯轴上,利用现有设备功能即可对助卷辊进行在线抛光;抛光器的抛光磨片设为沿外筒轴线成螺旋形排列的凹槽,使多个磨削刃同时接触辊面对其进行抛光;抛光磨片由弹性材料制成,里面含有均匀分布的研磨颗粒,提高研磨效果,而且不会划伤辊面。
 
  ① 凡本网注明"来源:涂附磨具网"的所有作品,均为河南远发信息技术有限公司合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明"来源:涂附磨具网"。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
② 凡本网注明"来源:XXX(非涂附磨具网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。
③ 如因作品内容、版权和其它问题需要同本网联系的,请在30日内进行。
※ 联系电话:0371-67667020

延伸推荐

昆山协高自动化科技取得汽车零件生产用抛光装置专利,减...

专利摘要显示,本实用新型公开了一种汽车零件生产用的抛光装置,包括工作台、转动连接在工作台内部的放置台,以及安装在工作台内部的第二微型电机,第二微型电机输出端连接在放置台底端;工作台...

日期 2025-08-22   涂附新闻

宁夏宇创电子申请用于晶圆研磨抛光的辅助设备专利,提高...

专利摘要显示,本发明涉及晶圆研磨抛光技术领域,且公开了一种用于晶圆研磨抛光的辅助设备,通过电机驱动转杆和转盘的转动,使得六个第一竖杆和第一抵触杆围绕晶圆均匀分布并进行夹紧动作。相比...

日期 2025-08-20   涂附新闻

上海盛剑微电子申请用于钨化学机械抛光组合物等专利,提...

金融界2025年7月23日消息,国家知识产权局信息显示,上海盛剑微电子有限公司申请一项名为“用于钨的化学机械抛光的组合物及其制备方法和化学机械抛光的方法”的专利,公开号CN1203...

日期 2025-07-24   涂附新闻

普瑞昇新材完成A轮融资,加速推进半导体高端抛光国产化...

普瑞昇新材专注于高端氧化铝抛光液及磨料的研发,在半导体抛光领域具备深厚技术积累。公司致力于提供国产替代方案,助力第三代化合物半导体制造环节实现自主可控......

日期 2025-07-23   涂附新闻

【每日科普】纳米金刚石在计算机磁头抛光中的应用

​纳米金刚石可用作计算机磁头的超精密抛光,抛光后的磁头表面常见的划痕、镶嵌颗粒及杂质消失,表面粗糙度小于0.2nm,改善表面粗糙度50%以上......

日期 2025-07-16   涂附新闻

“从粗磨到镜面抛光:砂轮磨削全工序详解与工艺优化指南...

​在精密制造领域,砂轮磨削是决定工件表面质量与尺寸精度的关键工艺。无论是金属、陶瓷还是复合材料,从粗磨快速去料到精磨抛光实现纳米级光洁度,每一步的砂轮选...

日期 2025-07-11   涂附新闻

曙光华阳申请用于超深井钻杆表面处理的复合磨料抛光工具...

专利摘要显示,本发明涉及钻杆表面复合磨料抛光技术领域,公开了用于超深井钻杆表面处理的复合磨料抛光工具及使用方法,包括平台,所述平台的底端对称固定连接有两个底座,两个底座的外侧与平台...

日期 2025-07-10   涂附新闻

晶亦精微申请一种氮化镓抛光的方法专利,极大地提高了G...

专利摘要显示,本发明涉及抛光技术领域,具体公开一种氮化镓抛光的方法。本发明提供的氮化镓抛光的方法,包括如下步骤用第一抛光液、第一抛光垫以及第二抛光液、第二抛光垫依次对氮化镓进行第一...

日期 2025-07-08   涂附新闻

CMC材料申请用于高度掺杂硼的硅膜的化学机械抛光组合...

金融界2025年7月7日消息,国家知识产权局信息显示,CMC材料有限责任公司申请一项名为“用于高度掺杂硼的硅膜的化学机械抛光组合物”的专利,公开号CN120265720A,申请日期...

日期 2025-07-07   涂附新闻

伟元科技申请芯片用抛光液及其制备方法专利,改性抑制剂...

专利摘要显示,本发明公开了一种芯片用抛光液及其制备方法,该抛光液......

日期 2025-06-30   涂附新闻
一钻商城