您好 欢迎来到涂附磨具网  | 免费注册
远发信息:磨料磨具行业的一站式媒体平台磨料磨具行业的一站式媒体平台
手机资讯手机资讯
官方微信官方微信

抛光轮和抛光膏结合使用的工艺

关键词 抛光|2015-03-11 10:46:18|应用技术|来源 中国涂附磨具网
摘要 机械抛光是利用抛光轮和抛光膏结合使用,对被加工工件进行切削和研磨,进而降低工件表面粗糙度,达到抛光效果;抛光膏是由抛光材料和油脂组成。由于抛光材料的不同,抛光膏又可分为黄色抛光膏、...
       机械抛光是利用抛光轮和抛光膏结合使用,对被加工工件进行切削和研磨,进而降低工件表面粗糙度,达到抛光效果;抛光膏是由抛光材料和油脂组成。由于抛光材料的不同,抛光膏又可分为黄色抛光膏、白色抛光膏、绿色抛光膏、灰色抛光膏、黑色抛光膏、红色抛光膏。常用的以黄色抛光膏、绿色抛光膏及绿色抛光膏为主。

       黄色抛光膏的主要成分为长石粉和油脂。这种抛光材料一般用于抛光的第一道工序--粗抛。广泛应用于铜、钢铁等金属的渡前处理、不锈钢及铜铝金属的粗抛、非金属制品有机玻璃等的抛光;绿色抛光膏和白色抛光膏与棉布轮结合使用,抛光后工件的镜面及高光效果非常明显。往往用于铬、镍镀层的精密抛光及其他硬质金属件的抛光;其他抛光膏应用领域比较特殊,不再详细说明。
  ① 凡本网注明"来源:涂附磨具网"的所有作品,均为河南远发信息技术有限公司合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明"来源:涂附磨具网"。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
② 凡本网注明"来源:XXX(非涂附磨具网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。
③ 如因作品内容、版权和其它问题需要同本网联系的,请在30日内进行。
※ 联系电话:0371-67667020

延伸推荐

“从粗磨到镜面抛光:砂轮磨削全工序详解与工艺优化指南...

​在精密制造领域,砂轮磨削是决定工件表面质量与尺寸精度的关键工艺。无论是金属、陶瓷还是复合材料,从粗磨快速去料到精磨抛光实现纳米级光洁度,每一步的砂轮选...

日期 2025-07-11   涂附新闻

曙光华阳申请用于超深井钻杆表面处理的复合磨料抛光工具...

专利摘要显示,本发明涉及钻杆表面复合磨料抛光技术领域,公开了用于超深井钻杆表面处理的复合磨料抛光工具及使用方法,包括平台,所述平台的底端对称固定连接有两个底座,两个底座的外侧与平台...

日期 2025-07-10   涂附新闻

晶亦精微申请一种氮化镓抛光的方法专利,极大地提高了G...

专利摘要显示,本发明涉及抛光技术领域,具体公开一种氮化镓抛光的方法。本发明提供的氮化镓抛光的方法,包括如下步骤用第一抛光液、第一抛光垫以及第二抛光液、第二抛光垫依次对氮化镓进行第一...

日期 2025-07-08   涂附新闻

CMC材料申请用于高度掺杂硼的硅膜的化学机械抛光组合...

金融界2025年7月7日消息,国家知识产权局信息显示,CMC材料有限责任公司申请一项名为“用于高度掺杂硼的硅膜的化学机械抛光组合物”的专利,公开号CN120265720A,申请日期...

日期 2025-07-07   涂附新闻

伟元科技申请芯片用抛光液及其制备方法专利,改性抑制剂...

专利摘要显示,本发明公开了一种芯片用抛光液及其制备方法,该抛光液......

日期 2025-06-30   涂附新闻

金太阳:产品可应用于各类需要研磨抛光的零部件

同花顺金融研究中心06月30日讯,有投资者向金太阳提问,你好!贵公司产品在服务机器人及人形机器人产业链有相关应用及服务吗?终端客户有哪些?谢谢!  公司回答表示,您好,公司是一家为...

日期 2025-06-30   涂附新闻

中国航发哈轴申请轴承外圈滚道抛光装置及方法专利,提高...

专利摘要显示,一种轴承外圈滚道抛光装置及抛光方法,涉及一种轴承抛光装置及抛光方法,为了解决现有的轴承外圈抛光方法抛光效率差以及抛光效果不佳的问题......

日期 2025-06-24   涂附新闻

金太阳:公司抛光耗材已通过比亚迪认证并实现批量供货

​同花顺(300033)金融研究中心06月16日讯,有投资者向金太阳(300606)提问,请问董秘公司新开发的泡沫金字塔结构抛光耗材品类通过新能源汽车龙头企业比亚迪......

日期 2025-06-17   企业新闻

中欣晶圆12吋抛光片正式通线

​据丽水经开区、中欣晶圆官微消息,6月7日,浙江丽水中欣晶圆半导体材料有限公司举行12吋抛光片通线仪式,标志着丽水经开区正式量产全市首批12吋抛光片......

日期 2025-06-10   涂附新闻

上海润平电子申请低硬度研磨垫及其制备方法专利,降低研...

专利摘要显示,本发明提供了一种低硬度研磨垫及其制备方法,所述的制备方法包括:提供基材层、热熔粘结层与上垫层;对所述基材层进行预处理,得到邵氏硬度<50SHA的缓冲层,随后在所述缓...

日期 2025-05-16   涂附新闻
一钻商城