研磨抛光材料抛光液具有高渗透、高强度、高附着力、成膜活性、高耐候以及强触变等性能:
一、高纯度,有效减小对电子类产品的沾污
二、抛光材料高抛光速率,利用分散均匀纳米二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的
三、高平坦度加工,本品抛光是利用纳米SiO2等材料的粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
对抛光材料抛光液使用注意事项:由于产品在贮存一段时间后,会逐渐增稠甚至呈冻状,所以在使用时建议以水:溶液=1:1的比例兑稀,并建议使用分散设备搅拌均匀(效果更好)后再添加。在添加时,还应该注意体系的粘度,避免由于基料粘度太低或剪切速率低而导致的重絮凝问题。
抛光液主要应用范围包括:
首先、抛光材料抛光液广泛用于纳米级的化学机械抛光,如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石等纳米级及亚纳米级抛光加工。
其次、抛光液产品可以作为一种添加剂,也可应用水性胶粘剂与高耐候外墙涂料等领域。